普达特科技(00650.HK)公布，公司一台12英寸LPCVD炉管设备成功通过客户验收，该设备应用於LP -Si N薄膜沉积工艺。此外，另一台12英寸ALD炉管设备在客户端处於验证过程中，该设备应用於ALD -Si N/ALD -Si CN薄膜沉积工艺，兼容Thermal/Plasma模式。



此外，公司半导体单片清洗设备亦持续扩大客户基础与量产经验。自去年10月至今，已有五台6至12英寸CUBE单片清洗设备成功於多家高质量客户处通过验收，应用於Si C/功率器件/数模混合芯片等领域，其中两台设备为重复订单。



未来，公司将继续完成半导体先进炉管设备与清洗设备的交付与验收，持续扩大高质量客户基础，并充分发挥公司技术优势，推动先进半导体设备国产化取得进一步突破。